半导体超纯水设备的工艺流程介绍
文章作者: 宏森环保
传统的半导体超纯水设备采用电渗析和离子交换器，而最新的半导体超纯水设备则是将离子交换器和电渗析两者相结合的一种新型除盐技术，可以除掉水中的阴阳离子，出水电阻率在15MΩ.CM以上。
那么，半导体超纯水设备的工艺，你了解吗？今天就由宏森环保来为大家介绍一下半导体超纯水设备的工艺。
1、采用离子交换方式(离子交换工艺参数)，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→阳树脂过滤床→阴树脂过滤床→阴阳树脂混床→微孔过滤器→用水点。
2、采用两级反渗透方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→第一级反渗透→PH调节→中间水箱→第二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)→纯化水箱→纯水泵→微孔过滤器→用水点。
3、采用EDI方式，其流程如下：原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。
以上就是关于半导体超纯水设备的工艺流程介绍，有不明白的欢迎咨询宏森环保客服人员，我们将竭诚为您服务。
